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| 中科院微電子所在先進(jìn)工藝仿真方向取得重要進(jìn)展 | |
 | 11/08/2024，光纖在線訊，環(huán)柵晶體管（GAAFET）與傳統(tǒng)FinFET工藝流程相比，引入了內(nèi)側(cè)墻（innerspacer）、溝道釋放（channelrelease）等工藝，必須通過對(duì)疊層結(jié)構(gòu)的精確橫向刻蝕來實(shí)現(xiàn)。高精度刻蝕工藝控制是三維集成電路制造面臨的最大挑戰(zhàn)之一，其工藝機(jī)理和調(diào)控機(jī)制在科...... 2024-11-08 11:29:51 |