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英特爾發(fā)布基于300mm 硅光平臺(tái)的8通道DFB陣列

光纖在線編輯部  2022-06-29 20:19:40  文章來(lái)源:綜合整理  版權(quán)所有,未經(jīng)許可嚴(yán)禁轉(zhuǎn)載.

導(dǎo)讀:英特爾的方案中采用了8個(gè)微環(huán)調(diào)制器。微環(huán)調(diào)制器既做調(diào)制器也做Mux/Demux,另外混合集成InP半導(dǎo)體激光器。這一八波長(zhǎng)分布式反饋激光器陣列是在英特爾的商用300 mm混合硅光平臺(tái)設(shè)計(jì)和制造的,此項(xiàng)創(chuàng)新被認(rèn)為實(shí)現(xiàn)了大型CMOS晶圓廠激光器制造能力的重大飛躍。

6/29/2022,光纖在線訊,今天上午,在硅基光電子的微信交流群里,英特爾研究院的資深首席工程師榮海生收獲了無(wú)數(shù)的點(diǎn)贊。因?yàn)橐彩窃诮裉,英特爾研究院宣布展示了完全集成在硅晶圓上的八波長(zhǎng)分布式反饋(DFB)激光器陣列,輸出功率均勻性達(dá)到+/- 0.25分貝(dB),波長(zhǎng)間隔均勻性到達(dá)±6.5%,均優(yōu)于行業(yè)規(guī)范。

在英特爾發(fā)布的新聞稿中,榮海生表示:“這項(xiàng)新的研究表明,均勻密集的波長(zhǎng)和良好適配的輸出功率是可以同時(shí)實(shí)現(xiàn)的,最重要的是,能夠利用英特爾晶圓廠現(xiàn)有的生產(chǎn)和制程控制技術(shù)做到這一點(diǎn)。因此,它為下一代光電共封裝和光互連器件的量產(chǎn)提供了一條清晰的路徑!

一直以來(lái),在硅光發(fā)展以及CPO光電合封領(lǐng)域,因?yàn)楣璞旧聿皇前l(fā)光材料,光源的問(wèn)題如何解決被認(rèn)為是一個(gè)難點(diǎn)。英特爾公司至今是業(yè)內(nèi)唯一堅(jiān)持發(fā)展內(nèi)置的硅基上混合集成的激光器的公司,而不是采用外部光源。這一次,英特爾一下子展出了集成在硅晶圓上的八個(gè)波長(zhǎng)的DFB陣列,當(dāng)然震動(dòng)了整個(gè)行業(yè)。

英特爾的方案中采用了8個(gè)微環(huán)調(diào)制器。微環(huán)調(diào)制器既做調(diào)制器也做Mux/Demux,另外混合集成InP半導(dǎo)體激光器。這一八波長(zhǎng)分布式反饋激光器陣列是在英特爾的商用300 mm混合硅光平臺(tái)設(shè)計(jì)和制造的,此項(xiàng)創(chuàng)新被認(rèn)為實(shí)現(xiàn)了大型CMOS晶圓廠激光器制造能力的重大飛躍。

在這項(xiàng)研究中,英特爾使用了先進(jìn)的光刻技術(shù),以在III-V族晶圓鍵合制程前完成硅片中波導(dǎo)光柵的配置。與在三或四英寸III-V族晶圓廠制造的普通半導(dǎo)體激光器相比,這項(xiàng)技術(shù)提高了波長(zhǎng)均勻性。此外,由于激光器的高密度集成,陣列在環(huán)境溫度改變時(shí)也能保持通道間距的穩(wěn)定。

英特爾公司指出,八波長(zhǎng)集成激光器陣列制造技術(shù)的許多方面正被英特爾的硅光產(chǎn)品部門用于打造未來(lái)的光互連芯粒。這一即將推出的產(chǎn)品將在包括CPU、GPU和內(nèi)存在內(nèi)的各種計(jì)算資源之間,實(shí)現(xiàn)低功耗、高性能、太比特每秒的互連。對(duì)實(shí)現(xiàn)光互連芯粒的大規(guī)模制造和部署而言,集成激光器陣列是縮小體積、降低成本的關(guān)鍵。
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