11/25/2024，光纖在線訊，據(jù)tomshardware11月24 日報(bào)道，世界最大的晶圓代工廠臺積電（TSMC）本周在歐洲開放創(chuàng)新平臺（OIP）論壇上宣布，電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化（EDA）工具和第三方IP模塊已為臺積電性能增強(qiáng)型的N2P和N2X制程技術(shù)（2納米級）做好準(zhǔn)備。這意味著各種芯片設(shè)計(jì)廠商現(xiàn)在可以基于臺積電第二代2nm級生產(chǎn)節(jié)點(diǎn)開發(fā)芯片，從而利用GAA晶體管架構(gòu)和低電阻電容器的優(yōu)勢。

      
（圖片來源：臺積電）

      目前，Cadence和Synopsys的所有主要工具以及Siemens EDA和Ansys的仿真和電遷移工具，都已為臺積電的N2P制造工藝做好準(zhǔn)備。這些程序已經(jīng)通過 N2P 工藝開發(fā)套件（PDK）版本 0.9 的認(rèn)證，由于該工藝預(yù)計(jì)將于 2026 年下半年投入大規(guī)模生產(chǎn)，因此該版本 PDK 被認(rèn)為足夠成熟。

      
（圖片來源：臺積電）

      此外，第三方IP，包括標(biāo)準(zhǔn)單元、GPIO、SRAM編譯器、ROM編譯器、內(nèi)存接口、SerDes和UCIe產(chǎn)品，現(xiàn)在可以從各種供應(yīng)商以預(yù)硅設(shè)計(jì)套件的形式獲得，這些供應(yīng)商包括臺積電本身、Alphawave、ABI、Cadence、Synopsys、M31和Silicon Creations。

      
（圖片來源：臺積電）

      與前代產(chǎn)品相比，TSMC 的 N2 系列工藝技術(shù)的改進(jìn)主要在于納米片全柵極（GAA）晶體管和超高性能金屬-絕緣體-金屬（SHPMIM）電容。

      納米片 GAA 晶體管的優(yōu)勢是眾所周知的：它們可以通過調(diào)整通道寬度來定制高性能或低泄漏操作。至于 SHPMIM 電容器，它旨在增強(qiáng)電源穩(wěn)定性并促進(jìn)片上解耦。據(jù)臺積電稱，SHPMIM 電容器的容量密度是其前代的兩倍以上。與前代產(chǎn)品相比，它還將Rs片狀電阻（歐姆/平方）降低了50%，而Rc通孔電阻也降低了50%。

      雖然所有 N2 系列生產(chǎn)節(jié)點(diǎn)都融合了這些優(yōu)勢，但與原來的 N2 相比，N2P 預(yù)計(jì)將提供額外的改進(jìn)：與原來的 N2 相比，功耗降低 5%-10%（在相同的頻率和晶體管數(shù)量下）或性能提高 5%-10%（在相同的功率和晶體管數(shù)量下）。而N2X 會(huì)擁有比 N2 和 N2P 更高的 FMAX 電壓，這實(shí)際上確保了最需要它們的設(shè)備的性能進(jìn)步：數(shù)據(jù)中心 CPU、GPU 和專用 ASIC。在 IP 級別，N2P 和 N2X 是兼容的，因此打算使用N2X的公司無需重新開發(fā)為N2P設(shè)計(jì)的任何東西。

      去年，臺積電在歐洲OIP論壇上表示，其 N2 工藝技術(shù)的生態(tài)系統(tǒng)正取得進(jìn)展，因?yàn)?nbsp;EDA 工具和一些第三方 IP 已經(jīng)通過了該合同芯片制造商的認(rèn)證。在今年的 OIP 活動(dòng)中，臺積電宣布，主要供應(yīng)商的所有EDA程序不僅通過了初代N2的認(rèn)證，而且也通過了其改進(jìn)版本N2P的認(rèn)證，這是一個(gè)重要的里程碑。

參考來源：www.tomshardware.com