10/16/2020,光纖在線訊,ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元,折合人民幣高達(dá)11.74億元。媒體稱,臺(tái)積電采購(gòu)的EUV光刻機(jī)已經(jīng)超過(guò)30臺(tái),三星累計(jì)采購(gòu)的EUV光刻機(jī)不到20臺(tái)。
圍繞芯片制造要用到的關(guān)鍵設(shè)備——光刻機(jī),一直不缺話題。
比如,一臺(tái)EUV光刻機(jī)賣多少錢?誰(shuí)買走了這些EUV光刻機(jī)?大陸廠商還能買到光刻機(jī)嗎?為何三星高管最近跑去荷蘭拜訪ASML總部?
上面這幾個(gè)問(wèn)題,其實(shí)可以在ASML和臺(tái)積電最新發(fā)布的三季報(bào)及業(yè)績(jī)說(shuō)明會(huì)中找到部分答案。兩家公司的地位無(wú)需多言,前者是全球頂級(jí)光刻機(jī)龍頭,后者是全球芯片制造龍頭。
一臺(tái)售價(jià)近12億元
關(guān)于售價(jià),ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink10月14日介紹公司三季度業(yè)績(jī)情況時(shí)間接給出了答案。他表示,“我們第三季度的新增訂單達(dá)到29億歐元,其中5.95億歐元來(lái)自4臺(tái)EUV設(shè)備!焙(jiǎn)單換算一下,一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元,折合人民幣高達(dá)11.74億元。
這是什么概念?2019年,A股還有1462家上市公司的營(yíng)業(yè)收入低于11.74億元。換句話說(shuō),ASML每年賣一臺(tái)EUV光刻機(jī),收入就可完勝A股的1/3公司。
售價(jià)這么高,ASML根本不愁買家,公司愁的是產(chǎn)能跟不上需求。
ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻機(jī)必不可缺。
據(jù)了解,EUV光刻機(jī)不需要多重曝光,一次就能曝出想要的精細(xì)圖形,沒有超純水和晶圓接觸,在產(chǎn)品生產(chǎn)周期、光學(xué)鄰近效應(yīng)矯正的復(fù)雜程度、工藝控制、良率等方面都有明顯優(yōu)勢(shì)。
ASML的EUV光刻機(jī)也在推陳出新。公司10月14日還公布了EUV路線圖上的新機(jī)型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格,曝光速度達(dá)到每小時(shí)曝光160片晶圓,提高了18%的生產(chǎn)效率,計(jì)劃于2021年的中期開始發(fā)貨。
ASML三季度凈銷售額為40億歐元,預(yù)計(jì)四季度的銷售額將在36億歐元到38億歐元之間,毛利率約50%!2021年,由于宏觀環(huán)境的不確定因素,包括疫情給經(jīng)濟(jì)帶來(lái)的影響,以及地緣政治的變化,我們預(yù)期業(yè)績(jī)?cè)鲩L(zhǎng)將是低雙位數(shù)。盡管如此,終端市場(chǎng)驅(qū)動(dòng)因素的變化(比如5G、人工智能和高性能計(jì)算),將推動(dòng)先進(jìn)制程的邏輯芯片和存儲(chǔ)芯片的市場(chǎng)需求,這都需要使用到先進(jìn)的光刻機(jī)! Peter Wennink說(shuō)。
芯片大廠爭(zhēng)購(gòu)
ASML的EUV光刻機(jī)在2016年正式上市,主要供應(yīng)給英特爾、臺(tái)積電和三星這三家大客戶。其EUV光刻機(jī)出貨量一直在增加,從2016年的5臺(tái)上升到2019年的26臺(tái)。
目前,臺(tái)積電已將可量產(chǎn)的工藝推到5nm,大幅領(lǐng)先英特爾和三星;同時(shí),按照計(jì)劃,公司3nm工藝將在明年試產(chǎn),2022年下半年正式量產(chǎn)。重要的是,客戶對(duì)其7nm工藝和5nm工藝的需求十分強(qiáng)勁,這兩項(xiàng)工藝的收入占比在三季度已達(dá)43%。因此,臺(tái)積電對(duì)EUV光刻機(jī)的需求無(wú)疑也是最強(qiáng)勁的。
近期有媒體報(bào)道,由于先進(jìn)工藝推進(jìn)順利和訂單擴(kuò)大,臺(tái)積電將加大EUV光刻機(jī)的采購(gòu)力度,預(yù)計(jì)到2021年底采購(gòu)量至55臺(tái)左右。臺(tái)積電方面回復(fù)中國(guó)證券報(bào)記者采訪時(shí)表示,公司不評(píng)論市場(chǎng)傳聞。前述媒體援引半導(dǎo)體供應(yīng)鏈消息稱,臺(tái)積電采購(gòu)的EUV光刻機(jī)已經(jīng)超過(guò)30臺(tái),三星累計(jì)采購(gòu)的EUV光刻機(jī)不到20臺(tái)。
值得注意的是,ASML的財(cái)報(bào)顯示,三季度來(lái)自中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)貢獻(xiàn)的收入占比為47%,環(huán)比提高了26個(gè)百分點(diǎn)。業(yè)界認(rèn)為,這主要是由臺(tái)積電采購(gòu)EUV光刻機(jī)帶來(lái)。
與此同時(shí),ASML來(lái)自韓國(guó)的收入占比出現(xiàn)下降,從二季度的38%下降到三季度的26%。有報(bào)道稱,三星電子副董事長(zhǎng)李在镕近日飛赴ASML荷蘭總部會(huì)晤,雙方探討的核心是EUV光刻機(jī)的供應(yīng)和裝配(5nm),同時(shí)就面向AI等領(lǐng)域的下一代光刻機(jī)研發(fā)合作交換了意見。
當(dāng)然,ASML光刻機(jī)的買家還有大陸廠商,但購(gòu)買EUV光刻機(jī)存在阻力,而購(gòu)買DUV光刻機(jī)無(wú)礙。Peter Wennink表示,“根據(jù)當(dāng)前法規(guī),
ASML無(wú)需獲得美國(guó)出口許可證便可以繼續(xù)從荷蘭向中國(guó)客戶出貨DUV光刻系統(tǒng);對(duì)于直接從美國(guó)發(fā)貨系統(tǒng)或零件到受法規(guī)影響的客戶,ASML需獲得許可證!
EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)有什么不同?
根據(jù)曝光源的不同,光刻機(jī)分為EUV型(極深紫外線)、DUV型(深紫外線)。
從制程范圍來(lái)看,DUV基本上只能做到25nm,而EUV能滿足10nm以下的晶圓制造需求。
文章來(lái)源:中國(guó)證券報(bào)