1/03/2024,光纖在線訊,光電子先導(dǎo)院2023年大事記
日月更迭,光影流轉(zhuǎn)
黃光工藝
顯現(xiàn)每一刻拼搏的瞬間
刻蝕工藝
鐫刻每一步奮斗的足跡
薄膜沉積
積淀每一分成長(zhǎng)的底蘊(yùn)
回眸2023,這是光電子先導(dǎo)院踔厲奮發(fā)的一年。
這一年,先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)全面啟用,我們正式開(kāi)啟了“研發(fā)+工程”雙平臺(tái)運(yùn)營(yíng)模式;
這一年,我們完成了以VCSEL為代表的工藝平臺(tái)建設(shè),標(biāo)志著光電子先導(dǎo)院具備了相應(yīng)的芯片代工能力;
這一年,我們明確了未來(lái)五年的戰(zhàn)略目標(biāo),確定啟動(dòng)先進(jìn)硅光集成技術(shù)創(chuàng)新平臺(tái)的建設(shè),堅(jiān)定了邁向未來(lái)的腳步;
這一年……
不忘來(lái)時(shí)路,方知向何行。我們今日收錄往事成章,細(xì)數(shù)那些值得回憶的時(shí)刻。
01.工程創(chuàng)新平臺(tái)舉行核心設(shè)備搬入儀式
1月12日,光電子先導(dǎo)院先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)核心設(shè)備搬入儀式隆重舉行。隨著本次核心設(shè)備的搬入,先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)在“追光”之路上開(kāi)啟了新征程。
02.先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)全面啟用
3月30日,先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)成功建成并全面啟用。該平臺(tái)占地30畝,建設(shè)有中試車(chē)間、中試大樓、綜合樓和動(dòng)力站等研發(fā)中試配套設(shè)施,總建筑面積3萬(wàn)平方米,潔凈廠房3000平方米,專(zhuān)業(yè)設(shè)備100余臺(tái)(套)。
隨著該平臺(tái)建成并全面啟用,將有效解決化合物半導(dǎo)體光子器件“卡脖子”問(wèn)題,為光子企業(yè)的研發(fā)、中試、測(cè)試、工程化開(kāi)啟工藝技術(shù)服務(wù)。
03.通線、發(fā)布PDK,VCSEL工藝能力建設(shè)碩果累累
先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)啟用后,經(jīng)過(guò)研發(fā)團(tuán)隊(duì)的攻堅(jiān)克難,完成了包括光刻、刻蝕、薄膜、濕法氧化在內(nèi)的34項(xiàng)核心工藝開(kāi)發(fā),并于5月31日完成VCSEL快測(cè)工藝通線。
8月31日,研發(fā)團(tuán)隊(duì)又完成了VCSEL單結(jié)快測(cè)工藝平臺(tái)的開(kāi)發(fā),并輸出了快測(cè)工藝PDK。開(kāi)發(fā)出的快測(cè)工藝可支持客戶(hù)快測(cè)驗(yàn)證流片,流片重復(fù)性及穩(wěn)定性可控性高,流片周期短,能滿(mǎn)足客戶(hù)對(duì)Quick Run的流片時(shí)間及性能穩(wěn)定性比對(duì)需求,縮短客戶(hù)產(chǎn)品的研發(fā)周期。
12月初,研發(fā)團(tuán)隊(duì)再創(chuàng)佳績(jī),完成了VCSEL單結(jié)單孔、VCSEL單結(jié)陣列工藝平臺(tái)的搭建,發(fā)布了VCSEL單結(jié)單孔及單結(jié)陣列工藝平臺(tái)PDK。
(VCSEL快測(cè)示意圖)
這標(biāo)志著先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)已經(jīng)具備了相應(yīng)的芯片代工能力,可為外延廠家、設(shè)計(jì)公司及下游應(yīng)用端客戶(hù)提供產(chǎn)品級(jí)導(dǎo)入服務(wù),加速企業(yè)產(chǎn)品創(chuàng)新,有效推動(dòng)光子產(chǎn)業(yè)持續(xù)創(chuàng)新發(fā)展。
04.共性基礎(chǔ)工藝平臺(tái)齊頭并進(jìn)
2023年,為了拓展工程平臺(tái)“1+N”的服務(wù)模式,除了VCSEL主平臺(tái)工藝的開(kāi)發(fā)外,研發(fā)團(tuán)隊(duì)還同步進(jìn)行砷化鎵IPD無(wú)源器件和GaN HEMT共性基礎(chǔ)工藝平臺(tái)開(kāi)發(fā),目前已完成了基礎(chǔ)工藝的開(kāi)發(fā),并經(jīng)過(guò)多輪流片驗(yàn)證,工藝過(guò)程參數(shù)均符合指標(biāo)要求,工藝過(guò)程可控。
(HEMT、電感、電容器件圖)
05.銳意進(jìn)取開(kāi)拓新市場(chǎng),芯片代工與日驟增
隨著先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)VCSEL工藝能力建設(shè)完備,光電子先導(dǎo)院芯片代工業(yè)務(wù)與日驟增。2023年,公司新開(kāi)拓了多家VCSEL和通訊芯片代工客戶(hù),代工業(yè)務(wù)再上新臺(tái)階。
此外,先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)加速賦能,助力高校和研究院所的科研成果轉(zhuǎn)化,今年3月以來(lái),已為包括西安光機(jī)所、西安交通大學(xué)、西北工業(yè)大學(xué)在內(nèi)的10余家高校及研究所提供了工藝技術(shù)服務(wù),解決了實(shí)驗(yàn)室無(wú)法實(shí)現(xiàn)工程化量產(chǎn)和無(wú)法驗(yàn)證良品率的痛點(diǎn)。
光電子先導(dǎo)院通過(guò)化合物芯片先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái),持續(xù)為客戶(hù)提供產(chǎn)品研發(fā)、小批量加工,從加工效率、加工成本、加工質(zhì)量逐步優(yōu)化,解決客戶(hù)“卡脖子”問(wèn)題。
06.VCSEL晶圓產(chǎn)品亮相行業(yè)知名展會(huì)
7月11日,光電子先導(dǎo)院攜6英寸砷化鎵VCSEL單孔及陣列晶圓亮相上海慕尼黑光博會(huì);9月6日,光電子先導(dǎo)院再次攜晶圓產(chǎn)品亮相第24屆中國(guó)國(guó)際光電博覽會(huì)。
9月22日,光電子先導(dǎo)院以“硬核科技、追光而行”為主題,亮相于2023歐亞經(jīng)濟(jì)論壇經(jīng)貿(mào)合作博覽會(huì)暨中國(guó)(陜西)進(jìn)出口商品展,重點(diǎn)展出了光電芯片領(lǐng)域的激光器芯片、探測(cè)器芯片、濾波器等先進(jìn)產(chǎn)品。
07.重大項(xiàng)目申報(bào)立項(xiàng)獲得全面突破
自先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)啟用以來(lái),申報(bào)的陜西省發(fā)改委產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整(服務(wù)業(yè))專(zhuān)項(xiàng)、西安市第四批科技服務(wù)業(yè)示范機(jī)構(gòu)、西安市新型研發(fā)機(jī)構(gòu)績(jī)效考評(píng)等12項(xiàng)政府項(xiàng)目獲得立項(xiàng)。
資質(zhì)方面,今年3月,光電子先導(dǎo)院被陜西省工信廳認(rèn)定為2022年“創(chuàng)新型”中小企業(yè);4月,被科技部認(rèn)定為“科技型中小企業(yè)”;7月,被科技部認(rèn)定為“高新技術(shù)企業(yè)”;9月,被西安市科技局認(rèn)定為“西安市科技服務(wù)業(yè)示范機(jī)構(gòu)”。
08.省市領(lǐng)導(dǎo)調(diào)研先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)
先進(jìn)光子器件工程平臺(tái)建成后,得到省、市、區(qū)各級(jí)領(lǐng)導(dǎo)的高度關(guān)注和肯定。
5月22日,西安市委書(shū)記方紅衛(wèi)調(diào)研光電子先導(dǎo)院先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái);
(西安市委書(shū)記方紅衛(wèi)調(diào)研先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái))
6月5日,西安市市長(zhǎng)葉牛平一行調(diào)研光電子先導(dǎo)院先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái);
(西安市市長(zhǎng)牛葉平調(diào)研先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái))
6月13日,陜西省委書(shū)記趙一德,省委常委王曉、方紅衛(wèi)、王琳,副省長(zhǎng)戴彬彬,西安市市長(zhǎng)葉牛平,省直有關(guān)部門(mén)負(fù)責(zé)同志調(diào)研先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)。
(陜西省委書(shū)記趙一德一行調(diào)研先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái))
11月14日,陜西省副省長(zhǎng)王海鵬帶領(lǐng)省級(jí)有關(guān)部門(mén)負(fù)責(zé)同志調(diào)研光電子先導(dǎo)院先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái),了解光子產(chǎn)業(yè)發(fā)展情況。
09.廣受媒體界關(guān)注
先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)建成后,獲得了媒體界的廣泛關(guān)注,吸引了全國(guó)各大主流媒體記者參觀、調(diào)研,并吸引新華社、央視、中國(guó)日?qǐng)?bào)、陜西日?qǐng)?bào)等十余家媒體爭(zhēng)相報(bào)道。
10.“追光”到“躍遷”:初步擬定未來(lái)五年戰(zhàn)略目標(biāo)
11月12日,光電子先導(dǎo)院召開(kāi)戰(zhàn)略宣貫暨2024年經(jīng)營(yíng)計(jì)劃討論會(huì),會(huì)議初步擬定了先導(dǎo)院未來(lái)五年戰(zhàn)略目標(biāo),將光電子集成工藝技術(shù)作為未來(lái)主要發(fā)展方向,并啟動(dòng)先進(jìn)硅光集成技術(shù)創(chuàng)新平臺(tái)建設(shè)項(xiàng)目。
硅光項(xiàng)目建成后,光電子先導(dǎo)院將實(shí)現(xiàn)化合物+硅光芯片全流程的研發(fā)、試驗(yàn)、中試能力,有效助力光子產(chǎn)業(yè)升級(jí)賦能。
2024新年寄語(yǔ)
流年笑擲,未來(lái)可期,不負(fù)芳華。
當(dāng)前世界之變、時(shí)代之變正以前所未有的方式展開(kāi),全球正處于信息時(shí)代和智能時(shí)代的轉(zhuǎn)折點(diǎn),第四次科技革命已然來(lái)臨。
面對(duì)2024年新形勢(shì)、新環(huán)境、新任務(wù)和新目標(biāo)的挑戰(zhàn),光電子先導(dǎo)院將繼續(xù)保持戰(zhàn)略定力,將持續(xù)以確定的態(tài)度和堅(jiān)持面對(duì)未來(lái)的不確定性,將以光電芯片平臺(tái)的專(zhuān)業(yè)性和競(jìng)爭(zhēng)力面對(duì)變化和挑戰(zhàn)!
讓我們一起攜手同行!